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光刻機做成“光刻廠”,靠不靠譜?

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1#
發表于 2023-9-19 16:42:11 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式

距離華為Mate 60 pro突然開售已經過去半個月,線上預訂的粉絲們最近都陸續收到了新機。


但由于華為官方一直沒有召開手機發布會,因此這款手機上依然有非常多的謎團等待解開。


就例如,這顆突然“空降”的麒麟9000s處理器,究竟算不算5G芯片?華為又是如何在重重封鎖下,“手搓”這顆純國產芯片呢?


在這里,我們就不對華為背后的技術和進行過多揣測,但可以肯定的是,國產光刻機技術在近期有不小的突破。


巧的是,就在最近,一項來自清華大學的光刻機技術在網絡上火了起來,簡單來說,就是把光刻機做得足夠大,就能生產出EUV光刻機需要的光源。



這樣的腦洞,不僅路人們聽上去玄乎,就連不少技術人員也表示了驚嘆。


一時間,網上的解讀和質疑聲也是層出不窮。


什么是SSMB

這項由清華大學提出的技術,專業術語名叫“穩態微聚束”(steady-state micro-bunching),簡稱SSMB,是一種新型的粒子加速器光源。


最早由清華大學杰出訪問教授趙午教授與其博士生于2010年提出,并在2017年,與清華大學工程物理系教授唐傳祥合作,共同發起理論實驗。


在2022年的中國物理學會秋季學術會議上,研究組成員潘志龍提到了由SSMB技術造出來的光刻機,叫作“SSMB-EUV”光刻機,而這也正是最近討論的話題的來源。


圖源 |寇享學術


SSMB背后涉及的原理非常復雜,筆者并不能完全解釋,所以這里就結合幾位科普博主的講解視頻,簡單進行一點概括。


首先,光刻機的原理,是利用光刻機發出的光源,通過設定好圖形的光罩,對涂有光刻機的硅板進行曝光,從而“刻”出電子線路圖,再進行一些后期加工,最終形成芯片的雛形。


如果光源的波長越短、功率越大,這樣的“光刀”就更加鋒利,“雕刻”出來的電子線路圖也就更加精密,芯片的性能與算力也就越強。目前,波長僅為13.5nm的極紫外光(EUV),是高端芯片的唯一選擇。


從電磁波譜上看,EUV已經非常接近X-射線,這么高的能量,單靠物理操作很難實現。


ASML采用的是LPP模式,通過一臺功率大于20 kW的CO2氣體激光器轟擊液態錫,形成等離子體,從而產生極紫外光。


圖 |LPP-EUV


在找到EUV光源解決方案后,加上多年以來的光刻技術,ASML做出業內最頂尖的EUV光刻機,最終壟斷了整個市場。


值得一提的是,為ASML提供EUV技術的是美國公司Cymer,這是全球唯一能夠提供商用EUV光源的公司,國內自然無法從外部解決光源問題。


不過,實現EUV光源的方案不止一種,清華大學團隊想到了用加速器加速電子,從而產生高功率的輻射。


簡單來說,電子只要加速運動,就會發射電磁波,理論上只要加速度夠快,那么必然出現符合EUV波長的“光子”。


但光有一個“光子”還不夠,想做光刻機需要穩定的“光束”。


研究人員發現,當電子束繞過加速器后,受到磁場的作用,會形成精細的微結構,這種就是“微聚束”。


圖源 | 《自然》雜志


再讓這些微聚束穿入激光陣列,通過激光與電子的相互作用,形成有一定間隔,相對聚集的排列,就這樣,微聚束被“穩態”地保持了。


就這樣,穩態微聚束呈現出極紫外光的高功率與短波長,算得上一種全新的EUV光源解決思路。


光刻機做成“光刻廠”,靠不靠譜?

解釋完SSMB技術,光刻廠又是怎么一回事?


在網上,有人把“SSMB-EUV”光刻機稱作光刻工廠,甚至給出了工廠所在的地河北雄安新區,并貼出了相關圖片(注:網傳圖片為高能同步輻射光源項目,并非SSMB設施)。


據悉,除了3nm工藝外,4nm、7nm、14nm、28nm,但凡你聽說過的芯片制程工藝,都能在這個光刻工廠里解決。


圖源 | 微博


為了更好地理解,有人形象地將光刻工廠比喻成籃球架——如果說以前最中心的籃筐里(3nm)難度很大,那么就多加幾個籃筐(其他工藝),只要投籃次數夠多,總能投到最中心籃筐,而投不進的話,掉到其他籃筐里也能得分。


從原理上來說,光刻工廠和SSMB技術確實有很大的關聯性,都是利用電子束加速產生電磁波,從而得到對應的波長。由于粒子加速器體積大(加速器周長100-150米),同時需要很多配套設施,因此占地規模大也非常正常。


當然,方案可行,實施起來并沒有那么容易。


首先,從官方新聞稿看,這次在雄安新區落地的SSMB-EUV光源設施項目更接近科研用途,而不是實際生產。


從研發進程來看,SSMB-EUV技術在2021年在《Nature》雜志上正式刊登,通過原理驗證實驗,想在短時間內跨過下一步驗證,走向商用,還要一定時間。


其實,不論是光刻機還是光刻工廠,光源只是光刻機中的關鍵設備之一,其他配套設備同樣不可或缺。


作為一種全新的方案,其他國產替代設備是否適配SSMB-EUV技術,還是一個未知數。


最后,就是不少人提到的能源消耗和使用成本高的問題,雖然后續可以通過建造多條生產線將成本攤薄,但這就需要極強的規劃能力和長期運營能力。

總之,方案有了,思路有了,光刻工廠值得期待,但距離實際生產還有一段距離


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發表于 2023-9-20 09:38:42 | 只看該作者
   不懂,不過看這個宣傳方式就不是好事,大家都知道一個道理叫悶聲發大財。這種短視頻天天講的,肯定是有某些目的的。
   如果技術原理沒問題,合理的經濟投入,優秀的管理團隊,優秀的技術團隊再加時間,應該是沒問題的。但是這種宣傳就容易有資本介入,也容易引起一些居心不良的人或者國家注意,到時候收買或者安插幾個,可以做決策的人,隨意做幾個錯誤的決策,經濟時間損失就不一定多少。
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2#
發表于 2023-9-19 18:03:18 | 只看該作者

ヾ(❀╹◡╹)ノ~✧:;
期待~~~~~~···


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3#
發表于 2023-9-19 19:16:55 | 只看該作者
看了很多這方面的報道,說實話,沒有一家能解釋的清楚這個所謂光刻廠原理的。
也沒有一家能說清中國7納米芯片怎么來的。

點評

現在是立體布置晶體管,而晶體管數量是按照晶片平面面積折算的,線寬也大于所謂的多少nm。  發表于 2023-9-20 10:56
同樣的晶體管數量,面積如果要縮減為原來的一半,那尺寸就該縮減為0.7倍,所以x nm僅僅表示比上一代半導體晶體管密度增加了  發表于 2023-9-20 08:30
臺積電第一代7nm工藝就是用的DUV,另外所謂xnm,并不是生產的晶體管真的有什么尺寸達到了x nm,x nm只是一個類似華為mate 6的工藝代號,  發表于 2023-9-20 08:27
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