為什么最頂尖的光刻機是來自荷蘭,而不是美國?
20世紀60-70年代,光刻機的早期發展階段,美國是走在世界前面的。那時的光刻機原理很簡單,就是把光通過帶電路圖的掩膜投影到涂有光敏膠的晶圓上,那時的晶圓也只有1英寸大小。
80年代左右,由于美國的扶持,一些裝配產業向日本轉移,日本也抓住了機遇,在半導體領域趁勢崛起。90年代,日本的半導體產業成為了全球第一,出口額超過美國。
1984年,荷蘭光刻機廠商ASML成立,此時的阿斯麥只是飛利浦和一家小公司ASM International以50:50的比例組成的合資公司,最初員工只有31人。在成立初期,ASML沒錢沒客戶,甚至只能在簡易木板房工作。
1997年,英特爾和美國能源部牽頭組建EUV LLC前沿技術組織,集成了通訊巨頭摩托羅拉、IBM、芯片巨頭AMD,以及能源部下屬三大國家實驗室:勞倫斯-利弗莫爾國家實驗室、桑迪亞國家實驗室和勞倫斯伯克利實驗室。
此時的美國政府將EUV技術視為推動本國半導體產業發展的核心技術,并不太希望外國企業參與其中,但是此時美國本土光刻機企業已是“扶不起的阿斗”。
最后,ASML同意在美國建立一所工廠和一個研發中心,以滿足所有美國本土的產能需求,保證55%的零部件均從美國供應商處采購,并接受定期審查,才被納入美國EUV LLC聯盟。
這也就是為什么說“ASML一半是歐洲的,一半是美國的。”ASML被允許加入EUV LLC之后便順風順水一飛沖天,而尼康和佳能卻被排除在外,從而失去了未來的門票。
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